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大使館基坑工程施工方案40p

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該工程為某國(guó)駐華大使館，位于北京市某區(qū)內(nèi)，基底埋深為5m，局部電梯井6m。

工程及水文地質(zhì)條件（參考附近的某國(guó)駐華使館地勘資料）
1、工程地質(zhì)條件
擬建場(chǎng)地位于北京某區(qū)、第三使館區(qū)內(nèi)，地形平坦。
根據(jù)鉆探結(jié)果，擬建場(chǎng)地在15m勘探深度內(nèi)的地質(zhì)構(gòu)成為：地表為人工填土，以下為第四紀(jì)沖擊層，自上而下分述如下：
①1雜填土：本層厚度0.50-2.70m，層底標(biāo)高34.84-37.57m。
①2素填土：本層厚度0.40-1.80m，層底標(biāo)高33.94-36.83m。
②粉質(zhì)粘土：本層厚度9.60-10.80m，層底標(biāo)高26.12-27.53m。
2、工程水文地質(zhì)情況
1999年12月上旬勘探時(shí)，遇到兩層地下水，第一層為上層滯水，靜止水位埋深0.80-3.20m（相應(yīng)于標(biāo)高34.90-36.06m）；第二層為潛水，靜止水位埋深14.00m（相應(yīng)于標(biāo)高24.22m）。近年最高地下水位標(biāo)高為36.00m左右（上層滯水）。
發(fā)布：2007-08-04 09:34    編輯：泛普軟件 · xiaona    [打印此頁]    [關(guān)閉]
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