鋁型材整平光亮工藝

　　一、 前言

　　鋁合金陽極氧化前處理工藝是決定產品外觀質量的重要環(huán)節(jié)，型材機械紋的去除、起砂、亞光、增光等多種質量要求均由前處理工藝決定。傳統(tǒng)的前處理工藝分為三種：

　?。?）、堿蝕工藝：由除油→水洗→堿蝕→水洗→水洗→出光→水洗→水洗→氧化組成，即型材經除油后，在堿蝕槽中經堿蝕處理去除機械紋和自然氧化膜、起砂，然后經出光槽除去表面黑灰，即可進行陽極氧化。該工藝的核心工序是堿蝕，型材的表面平整度、起砂的好壞等均由該工序決定。為了達到整平機械紋的目的，一般需堿蝕12-15分鐘，鋁耗達40-50Kg/T，堿耗達50Kg/T.如此高的鋁耗，既浪費資源，又帶來嚴重的環(huán)保問題，增加廢水處理成本。該工藝已采用了100多年，全球大部分鋁材廠沿用至今，直到近兩年，才由酸蝕逐漸取代。

　　（2）、酸蝕工藝：由除油→水洗→酸蝕→水洗→水洗→堿蝕→水洗→水洗→出光→水洗→水洗→氧化組成。型材經除油后先酸蝕，后堿蝕，出光，完成前處理。該工藝的核心工序是酸蝕，去機械紋、起砂等均由酸蝕決定。不同于堿蝕，酸蝕的最大優(yōu)點是去機械紋能力強、起砂快、鋁耗低，一般3-5分鐘即可完成，鋁耗幾乎是堿蝕的1/8-1/6.從工作效率和節(jié)約資源的角度看，酸蝕無疑是堿蝕工藝的一大進步。然而，酸蝕的環(huán)保問題更加突出：酸槽的有毒氣體HF的逸出及水洗槽Fˉ的污染。氟化物一般都有劇毒，處理更加困難。另外，酸蝕處理后，型材外觀發(fā)黑發(fā)暗，盡管不得已延續(xù)了堿蝕和出光，可增亮一些，但仍然很暗，既增加了工序，又損失了光澤，這些問題至今還沒有有效的解決方案。

　　（3）、拋光工藝：由除油→水洗→拋光→水洗→水洗組成，型材經除油后即放入拋光槽，經2-5分鐘拋光后，可形成鏡面，水洗后可直接氧化。該工藝的核心工序是拋光，去紋、鏡面都在拋光槽完成。拋光具有鋁耗低、型材光亮的優(yōu)點，但拋光槽的NOx的逸出，造成嚴重的環(huán)境污染及操作工的身體傷害，同時，昂貴的化工原料成本等因素也制約了該工藝的推廣。 通觀上述三種工藝，雖各有特點，但缺點也比較突出，如堿蝕鋁耗高、堿渣多、工效低；酸蝕氟化物污染、型材發(fā)暗；拋光污染嚴重，成本過高等等。這些工藝要么污染了環(huán)境，要么浪費了鋁資源，要么降低了鋁材表面質量，亟待進行工藝改進。本公司推出的XY-Z整平光亮劑，正是為彌補上述三種前處理工藝的不足而精心設計的一種全新的表面處理技術。

　　二、 整平光亮工藝

　　所謂整平光亮工藝，是繼拋光、堿蝕、酸蝕之后推出的一項新的表面前處理工藝，是對堿蝕、酸蝕工藝的深刻改造和變革，它既具有酸蝕鋁耗低、去機械紋能力強、起砂快的優(yōu)點，又具有拋光的亮麗，但卻根本杜絕了拋光NOx污染、酸蝕氟化物污染、堿蝕堿渣污染等弊端，是一項頗具前途、具有革命性的新工藝。

　?。ㄒ唬?、工藝流程

　　整平光亮工藝比酸蝕、堿蝕要簡單得多，甚至比拋光工藝都簡單，主要由下述工序組成： 整平光亮→水洗→水洗→氧化。 本工藝的核心是整平光亮，整平機械紋、起砂、光亮等均由整平光亮槽完成，整平光亮后即可氧化，省去除油、堿蝕、中和等工序。

　?。ǘ?、型材外觀

　　經過整平光亮技術處理過的型材具有三大特點： 1、平整：在整平劑作用下，1-5分鐘內，可完全去掉機械紋，表面特別平整。 2、細砂：在起砂劑的作用下，型材表面起了一層均勻細砂，是噴砂和酸蝕技術很難達到的。 3、光亮：在光亮劑的作用下，型材表面非常光亮，幾乎可跟拋光材媲美。

　?。ㄈ?、適用范圍

　　1、建筑型材：銀白料經整平光亮后，表面非常平整、光亮、砂粒細膩均勻；著色、染色與整平光亮技術的結合，使得型材表面象經過打蠟處理后一樣鮮艷；電泳與整平光亮技術的結合能大幅度提高型材檔次。 2、工業(yè)用材：汽車輪轂、自行車圈、自行車架等用鋁合金制成的各類工業(yè)用材都可用整平光亮技術處理，以取代機械拋光，提高生產效率及產品檔次。 3、家用電器：很多家用電器鋁制外殼，都可借助本技術提高外觀質量。燈飾及裝飾用材也可借用本技術。

　　（四）、工藝規(guī)范

　　1、開槽： 整平光亮液（開槽液） 2、生產： 溫度：95－110℃ 時間：1-5min 3、添加：當槽液液面不能滿足生產要求時，應及時補充添加液。補充添加液時一定要補充到初始液位。添加后，應充分攪拌槽液，然后開始生產。 4、管理：整平光亮槽管理非常簡單，及時按比例添加即可，溶解與帶出的AL3+可達到平衡，槽液壽命在3年以上。 5、消耗：鋁耗比酸蝕低，與拋光相當；整平光亮劑消耗約為200-250Kg／T.

　　三、工藝對比

　　整平光亮技術是在堿蝕、酸蝕、拋光技術基礎上發(fā)展起來的，她吸收了前三項技術的優(yōu)點，同時又避免了其缺點，是-項難得的技術突破。