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某大使館基坑工程施工方案

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該工程為某大使館,位于北京市某區(qū)內(nèi),基底埋深為5m,局部電梯井6m。
根據(jù)場地含水層的分布、組織結(jié)構(gòu)和水力性質(zhì),結(jié)合基坑降水要求,本工程降水目的層為上層滯水,由于其顆粒細、埋深淺、滲透性小、且降水深度不大,適用真空井點降水技術(shù),方法比較簡單,效果好。
發(fā)布:2007-08-04 09:40    編輯:泛普軟件 · xiaona    [打印此頁]    [關(guān)閉]
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