什么是真空陰極磁控濺射鍍膜法？

鍍膜玻璃的真空陰極磁控濺射鍍膜法，是將玻璃置于真空室中，在真空室內(nèi)通入反應(yīng)性氣體，當(dāng)對(duì)濺射陰極通電時(shí)，在電場(chǎng)的作用下，從陽(yáng)極表面發(fā)射出電子，電子在電場(chǎng)的加速下能量迅速提高，高能電子將于陰極表面區(qū)域的空間的氣體分子相碰撞，使氣體分子電離，帶正電的粒子在電場(chǎng)的加速下，高速向陰極表面撞擊，將金屬粒子擊出，同時(shí)由于粒子碰撞靶表面產(chǎn)生大量二次電子，電子又在電場(chǎng)的加速下成為高能電子，從而維持這種導(dǎo)常輝光放電。其中，被帶正電的粒子從靶表面出的金屬粒子，會(huì)沉積在玻璃上，形成薄膜。采用這種方法，可以進(jìn)行多層膜的生產(chǎn)，可形成的材料極多。絕大部分的金屬和無機(jī)非金屬均可成膜。
“控陰極濺射的原理”是在陰極內(nèi)部裝有永久磁鐵或電磁鐵。磁場(chǎng)穿透陰極表面的金屬濺射靶，在對(duì)濺射陰極通電時(shí)，產(chǎn)生了一次電子，一次電子既在磁場(chǎng)束縛下又在電場(chǎng)的加速下，形成螺旋式運(yùn)動(dòng)軌跡，大大增加了加速時(shí)間及運(yùn)動(dòng)路程，提高了與空間氣體分子相碰撞的幾率和速度，從而提高了濺射沉積率。
采用真空磁控濺射鍍膜法生產(chǎn)熱反射鍍膜玻璃，是目前國(guó)際上生產(chǎn)大面積鍍膜玻璃的最先進(jìn)工藝方法，比傳統(tǒng)的鍍膜方法在產(chǎn)品質(zhì)量、功能、勞動(dòng)生產(chǎn)率、成本等方面有顯著的改進(jìn)。除具有上述特點(diǎn)外采用真空磁控濺射鍍膜法生產(chǎn)熱反射鍍膜玻璃，還具有膜層牢固和均勻，化學(xué)穩(wěn)定性能好等優(yōu)點(diǎn)。并能獲得多種理想的光學(xué)性能和豐富的反射顏色。